第671章 第二步：覆海！破晓 A220 EUV光刻机，陈总的新筹码！
八月中旬，阿里巴巴IPO、金陵青奥会、奥氏体304、冰桶挑战、古剑奇谭和锋菲复合的热度最高，
让网友们满心疑惑的是，陈延森就像凭空销声匿迹了似的，完全是一副查无此人的状态。
距他上一次公开露面，还是月初时，参加橙子幼儿园的剪彩仪式。
“学前教育行业的势力这么大吗？连前几天的商界领袖峰会，森哥都没参加。”
“我听说陈延森被人打了黑枪，现在还在沪城六院躺着呢！”
“不对啊，我听到的版本是陈总买卖爱情的时候被抓了，最少得关半个月！”
“666！楼上的哥们，你当森联资本的1000多名法务是摆设啊？等着收律师函吧！”
“笑死，删帖速度挺快呀！这是森联资本出手了，还是他自己怕了？”
“森哥早被人暗杀了！下个月要是有他的公开露面，那肯定是替身！”
就在陈延森忙着推进EUV光刻机的研发进度时，网上关于他的谣言却越传越离谱。
据不完全统计，在网友的嘴里，陈延森的死法包括但不仅限于枪杀、被车撞、遭毒杀、溺水身亡等。
最终还是森联资本法务部联合微博、今日头条、斗音、快手和微信等多家平台，才把造谣的声音给压了下去。
而陈延森则在一周之内，就接到了老陈的三通电话，在确定自家儿子没事后，扭头便化身辟谣战士，跑到网上跟散布谣言的网友直接对线。
陈延森得知后，倒也没有阻拦。
毕竟和人吵架，也能预防老年痴呆。
时间转瞬即至，来到8月23日的傍晚。
盛夏的晚风，将星源科技研发中心的香樟树吹得枝叶婆娑，沙沙作响。
最里层的核心实验室，此刻却亮如白昼，空气里弥漫着一种近乎凝固的炽热。
时间的概念被恒定的温度和湿度所模糊，唯一能感受到的流逝，是控制室屏幕上跳动的数字。
陈延森穿戴整齐，裹得严严实实，与梁劲松、林南、汪象朝和章延杰等人站在控制台前，透过厚重的抗辐射玻璃，凝视着眼前的庞然大物。
尽管这台EUV光刻机只是Alpha样机，但金属机身在冷光灯下泛着精密的银辉，数不清的管线如脉络般缠绕，核心腔室的观察窗透出淡紫色的微光。
EUV光源、光学系统和双工件台的技术天堑，竟被他们一个接一个地成功攻克。
大厅里异常安静，只能听到通风系统低沉的嗡鸣。
工程师们穿着全套无尘洁净服，像手术室里的医生，在设备周围轻缓走动，进行着最后的检查。
“老板，各分系统自检完毕，真空机组随时可以启动。”
林南的声音略带沙哑，冲着陈延森汇报道。
陈延森点了点头道：“按计划执行，逐步建立光路真空。”
命令下达后，控制室内的气氛瞬间绷紧。
巨大的真空泵组开始工作，发出低沉的咆哮。
显示屏上，代表光路内部真空度的数字，呈现断崖式的下跌趋势：0.01 Pa、0.0001 Pa、0.000001 Pa，向着高真空迈进。
所有人的心都提到了嗓子眼！
极致的真空环境是EUV光源传输的前提，任何一个微小的泄漏，都会导致前功尽弃。
不知过了多久！
汪象朝突然大声喊道：“真空度稳定在0.0000006帕斯卡！已达预设值！”
控制室内响起一阵轻微的、克制的骚动，有人轻轻握了握拳。
第一步，成功了！
为什么EUV光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统、成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下？
这是因为EUV光波长极短，极易被包括空气在内的所有物质吸收。
在真空环境中，可最大限度减少气体分子对EUV光的吸收和散射，从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。
若处于非真空环境，EUV光会在传输过程中大幅衰减，无法满足光刻所需的能量强度。
这一模块的核心技术，是由章延杰牵头，联合几十名沈阳光机所的工程师共同攻关拿下的。
因此，他比任何人都紧张，生怕出现纰漏，拖了团队的后腿。
“启动光源预热，功率设定为最低档位。”
陈延森语气平静地宣布下一道指令。
令人紧张的时刻到来！
这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源（MCDE-EUV光），即将被唤醒！
如果一切正常，它将用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段，进而获得微弱的、波长为13.5纳米的极深紫外光。
时间一分一秒地过去。
主监控屏上，一个原本平坦的基线，微微跳动了一下。
随后，一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值，顽强地升了起来！
“有信号了！”一名年轻的研究员忍不住地喊了出来，声音因激动而变得有些失真。
大家心里清楚！
第一台EUV光刻机对华国的重大战略意义！
几乎在同一时间，位于光路末端的EUV功率探测器，传回了第一条数据：107瓦！
一个在ASML看来早已被甩在身后的数字，此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静，随即爆发出巨大的欢呼声！
许多人下意识地拥抱在一起，眼眶瞬间红了。
林南感觉自己的手都在微微颤抖，于是紧紧抓住栏杆，强迫自己冷静下来。
陈延森倒是心态平稳，他抬手压了压，控制室里的欢呼声很快平息。
“提高功率档位！”陈延森继续说道。
EUV光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量，每一次曝光都需足够的EUV光能量触发光刻胶的光化学反应。
若光源功率低，需延长单次曝光时间或增加脉冲次数，才能满足能量需求，导致单晶圆处理时间变长。
比如200W功率的机型每小时可处理约125片晶圆，而250W机型可提升至每小时170片，产能提升近40%。
技术差一点，就是差了一大截！
而且功率越高，单位晶圆的光刻成本就越低，规模化优势就越强。
闻言，林南立刻收敛心神，右手在控制台上快速滑动，目光紧盯着功率调节界面：“收到！当前目标档位220瓦，升压速率已调至安全阈值，避免等离子体不稳定。”
控制台屏幕上，代表光源功率的数字开始缓慢爬升，每一个数值的跳动，控制室内的呼吸声就跟着沉重一分。
137瓦、168瓦、214瓦……
当数字稳稳停在220瓦时，林南立即看向一旁的光源稳定性监测曲线。
那条代表等离子体约束状态的绿色线条，始终保持着平稳的波动，没有出现任何异常的尖峰或骤降。
系统运行稳定！
“功率稳定在220瓦！等离子体约束状态良好，没有出现能量泄漏！”
林南的声音比刚才响亮了几分，紧绷的肩膀也稍稍放松了一些，脸上绽放出一抹旁人看不见的灿烂笑容。
作为国产第一台EUV光刻机的核心研发人员，那是妥妥能登上教科书、评院士、留名青史的人。
他连忙深吸了一口气，强行控制住自己的情绪。
陈延森微微颔首，转头看向章延杰：“光学系统同步适配，检查光束匀化效果。”
章延杰立马调出照明光学模块的实时数据，屏幕上弹出一组光束截面分布图。
淡紫色的光斑均匀地覆盖在模拟掩模区域，边缘没有出现丝毫能量衰减的阴影。
“陈老师，光束匀化度99.2%，符合220瓦功率下的光学适配要求，成像光学系统已完成自动对焦校准！”
章延杰扬声回应道。
这一次，控制室内的骚动比方才更加明显。
有人悄悄抹了把眼角，还有人用拳头轻轻捶了下桌面。
从107瓦到220瓦，不仅仅是数字的提升，更是证明他们的MCDE-EUV光源既能“点亮”，也能在更高功率下保持稳定，这意味着量产的可能性又近了一步。
功率是制约工艺节点的重要因素！
制程微缩需实现更小的线宽和间距，要求EUV光具备更高的光学对比度，而功率是对比度的核心支撑。
220瓦的稳定功率，足以满足7纳米制程的芯片生产所需。
陈延森嗯了一声，接着吩咐道：“准备晶圆台与掩模台同步测试，加载测试晶圆，按28纳米制程参数设置曝光程序。”
汪象朝马上响应：“测试晶圆已通过机械臂送入预对准工位，掩模台已加载28纳米标准电路掩模版，同步精度校准中。”
顷刻间，众人的视线重新聚焦在主监控屏上。
屏幕被分成了四个画面：左上角是光源功率与等离子体状态，右上角是光学系统的光束分布，左下角是晶圆台的实时坐标，右下角则是掩模台的运动轨迹。
随着汪象朝按下按钮，两个精密平台迅速移动，它们的运动轨迹像两条精准咬合的齿轮，每一次微调都控制在0.1纳米以内。
“同步精度0.08纳米！已达预设标准！”
汪象朝说道。
陈延森看了一眼时间，此刻是晚上8点37分，距离真空泵启动已经过去了半个多小时。
他俯下身子，对着麦克风，向实验室的工作人员叮嘱道：“曝光开始，单次曝光时间设置为0.5秒，记录所有参数。”
核心腔室的观察窗内，淡紫色的微光骤然亮了一下，旋即恢复柔和。
光路末端的探测器疯狂刷新着数据，屏幕上跳出一行行代表“曝光能量密度”、“线宽均匀度”、“图形套刻精度”的数值。
每一个数字都在朝着合格的方向靠近！
0.5秒的时间，却像一个世纪那么漫长。
当曝光完成的提示音在控制室内响起时，汪象朝立刻操控机械臂将测试晶圆移出，送往检测室。
一行人都跟了过去，连脚步都变得急促起来。
在精密的EUV掩模版检测仪下，当第一张晶圆的光刻图案清晰显示在屏幕上时，现场彻底沸腾了。
线条细如蛛丝，却没有一丝断裂或模糊，每一个晶体管的轮廓都精准得如同复刻。
光刻机的运行原理就像印刷机，又像照相机，只不过它所运用的‘画笔’和‘画板’都更为精细。
“成了！真的成了！”
汪象朝喃喃低语，双手在发抖，嘴里发出‘呵呵呵’的笑声，压抑中带着亢奋。
不一会儿，笑声变得呜咽。
他今年五十九岁，在EUV光源领域已经摸爬滚打了大半辈子。
曾经的他，眼看着自己的人生快要走到尽头，连EUV光源的技术突破也渐渐看不到希望，心里满是无力。
可谁曾想，星源科技会在这时横空出世，不仅打破了僵局，更给华国自主研发光刻机带来了全新的希望。
如今造出了EUV光刻机和烛龙 G1051五轴联动数控机床，往后华国芯片产业和高端制造业，总算不用再看别人脸色了！
汪象朝抹了把脸，想把激动的泪水憋回去，可嘴角却控制不住地往上扬，最后索性也不掩饰，任由泪水顺着脸颊往下淌。
这眼泪里，有大半辈子的遗憾，更有苦尽甘来的畅快。
林南见状，拍了拍他的肩膀，温言劝慰道：“汪工，咱们没白等，也没白干！”
站在人群里的梁劲松一脸唏嘘，他暗暗打量着陈延森，默默给出评价：妖怪级别的天才！
要知道，世界上大部分的技术突破，都需要一代人、甚至是几代人的积累，可陈延森硬是在二线的技术栈上，拿出了行业顶尖的方案。
220瓦、分辨率小于12纳米、0.33数值孔径的光学设计，每平方厘米可容纳约800亿个晶体管，绝对可以支持10纳米和7纳米节点的EUV量产需求。
陈延森微微一笑，这台EUV光刻机便是他的新筹码。
毕竟森联资本涉足的行业越广，树敌就越多，若是拿不出像样的压箱底本事，又如何能获得上面的全力支持？
另外，一台光刻机的售价高达5000万到9000万美币，能够创造巨大的经济利益。
而且陈延森还能借此培养一批生产、安装、养护和维修的工作人员，进而获得更多的人道薪火。
不过，Alpha样机仅适用于内部测试，并不具备实际流片测试的条件，后续还得推出Beta样机，即产品发布前由外部用户进行测试的设备。
好在星源科技有自己的生产线，只需经过反复调试、修改、迭代，就能逐步推进，最终制造出符合要求的成品光刻机。
“陈老师，给它取个名字吧！”
章延杰提议道。
“黑暗已逝，破晓乍现！就叫破晓 A220吧。”
陈延森想了想说道。
A代表星源科技光刻机的第一条序列，220是它的峰值功率。
与此同时。
李青松在收到消息后，立马拿起文件，急匆匆地朝着南海旁的一座庭院赶去。