深城，海湾科技的三号楼，也是EUV项目办公楼里的一楼实验室里。
徐申学带着几个集团高管在海湾科技的众人陪同下，参观了这台EUV光刻机原型机。
EUV光刻机这东西，光看外表也看不出来什么，就是一个大柜子……光看这个大柜子，普通人很难想象这东西的价格得至少一点五亿美元甚至更贵。
此时海湾科技的CEO王道林，则是一脸兴奋的向徐申学介绍着这台原型机的基本情况：“我们的这台原型机在研发的时候，已经历经了多次的试验机型的研发，以逐步提升技术水准！”
“如在关键技术参数，也就是数值孔径上，我们一开始只能做到0.25，而而这一水平的数值孔径下，哪怕是我们采用了波长更短极紫外光，但是最后做出来的分辨率依旧不行，第一代试验机的分辨率只有三十五纳米！”
“后续我们继续研发，通过多系统的整合，先进材料的进一步应用，把数值孔径提升到了0.33，也就是国外ASML旗下产品的同等水准。”
“同时我们在其他子系统，尤其是光源系统以及镜片系统上也获得了巨大的技术进步，等到第二代试验机的时候，我们已经把分辨率提升到了二十纳米！”
“理论上来说，这个分辨率已经很不错，已经可以用来生产现在的这些十纳米等效工艺，十二纳米等效工艺，甚至等效七纳米的芯片了！”
“但是性价比太低了，现在的EUV光刻机研发成本投入巨大，同时制造的硬件成本也会非常大，最后售价可能是现有的DUV浸润式光刻机的两倍以上，但是EUV光刻机的生产效率目前还无法提升，只维持在每小时一百片的水准，这意味着从商业价值上来说，第二代试验机依旧没有实际价值，同时当时的套刻精度也只有二点五纳米。”
“而我们目前量产的最先进的HDUV-600B型光刻机，分辨率达到38纳米，套刻精度2.5纳米，已经可以很充分的满足10-14纳米工艺的芯片生产需求，性价比更高！”
“综合来看，第二代试验机因为性价比问题，并不具备商业化潜力，所以我们在第二代试验机的基础上继续进行改进！”
“从去年开始，我们开始第三代试验机的深度改进研发，主要是进一步提升分辨率以及套刻精度，此外也进一步提升机台的工作效率以及稳定性，为商业化生产做准备。”
“通过大量的技术研发，在仙女山旗下众多合作企业的配合下，我们先后对光源系统，曝光系统，机台系统等进行了大幅度的技术升级！”
“最终，我们做出来了这台第三代的试验机，同时也是量产型号的原型机：HEUV-300A型！”
“经过大量的技术升级，目前我们的这台HEUV-300A，分辨率已经达到了十三纳米，数值孔径为0.33，最重要的是套刻精度提升到了2纳米。”
“其中套刻精度的提升是一个巨大的技术进步，这意味着我们可以使用这台光刻机低成本的生产等效7纳米工艺的芯片，甚至生产等效五纳米工艺的芯片！”
徐申学搞了这么多年的半导体，多少对半导体设备以及工艺之间的关系能搞清楚了。
光是一听这个十四纳米工艺的分辨率，他就知道这台EUV光刻机的巨大价值了。
芯片工艺能做到做好，是和光刻机的分辨率以及套刻精度息息相关的。
芯片工艺的好坏，芯片工厂一般用等效工艺来进行宣传，智云的十八纳米、十四纳米、十二纳米、十纳米都是属于等效工艺，台积电那边的二十纳米、十六纳米、十纳米工艺也是属于等效工艺……并不是说芯片的金属间隔真达到了这个程度。
芯片行业内一般使用多个关键数据来判断芯片工艺的好坏，而其中和光刻机关系最大的就是半金属间距了。
如智云半导体的十四纳米工艺，其半金属间距是四十三纳米；而今年刚推向市场的等效十纳米工艺，其半金属间距是三十二纳米。
正在研发当中，预计明年投产的等效七纳米工艺，半金属间距是二十七。
隔壁的台积电以及四星，在各工艺节点上也差不多这个水准，有一些偏差，但是不会大。
而到了二十七纳米这个半金属间距，也就是等效七纳米工艺这个工艺节点后，DUV浸润式光刻机受限于分辨率的限制已经到了物理理论极限了，很难再往下继续搞了，比如等效五纳米工艺就很难搞……当然，也不是说不行，如果套刻精度能够做到两纳米的程度，也能勉强高，但是成本会上天……
智云半导体以及对面的台积电，其实都在尝试用DUV浸润式光刻机搞等效五纳米工艺的芯片……嗯，就是尝试把芯片的半金属间距做到大概二十五纳米的水准。
别看只是两纳米的半金属工艺的提升，但是依旧是一道难以夸张的天堑，难得很。
所以别看都在搞，但实际上都对这一技术路线望而止步……用DUV浸润式光刻机搞等效五纳米的芯片，这个太扯淡了，从商业角度来看完全不值得。
所以这两家芯片先进工艺的竞争对手，在使用DUV浸润式光刻机制造等效五纳米工艺这一技术路线上，都是雷声大，雨点小……都在指望EUV光刻机呢。
至于四星和英特尔，他们就更惨了，他们连十纳米工艺，嗯，也就是大概三十三半金属工艺节点都还没有搞出来呢。
等效七纳米，遥遥无期……
其中的英特尔是受限于各种情况，技术推进非常不顺利，只能在十四纳米工艺上修修改改。
而四星那边，则是之前被智云半导体挖走了梁松教授，没有顶级人才的协助下他们搞起来先进工艺也很难，现在还在十四纳米工艺里打转。
同时，这两家半导体厂商，现在也开始指望用EUV光刻机搞后续的七纳米工艺……用DUV浸润式光刻机玩四重曝光，然后搞等效七纳米，太尼玛难了。
所以，DUV浸润式光刻机受限于本身的分辨率限制，别说搞等效五纳米了，就算是用来做等效七纳米工艺，也是千难万难……也不是搞不了，而是良率太低了，进而导致芯片成本暴涨。
而芯片可是一个非常讲究性价比的东西，你性能没提升多少，但是成本暴涨好几倍，这是没有市场价值可言的。
到了等效七纳米工艺这个阶段，其实就需要EUV光刻机了……因为它的分辨率更低，哪怕是单次曝光也能够达到DUV浸润式光刻机四重曝光的精度……这意味着什么？
省钱啊！
哪怕EUV光刻机更贵，生产效率更低，但是因为不需要四重曝光就能生产等效七纳米乃至五纳米工艺的芯片，因此生产出来的等效七纳米，五纳米工艺的芯片，其成本依旧低于DUV浸润式光刻机。
当然，EUV光刻机的潜力更大，后续还能够生产性能更好的芯片，这也是现在的DUV浸润式光刻机所无法做到的。
比如等到未来，芯片工艺技术进一步发展，芯片的半金属间距进一步提升到四十多纳米、三十多纳米，甚至二十多纳米、十多纳米的时候……DUV浸润式光刻机是无论如何都做不到的，这都和工艺没啥关系，而是物理极限就摆在这里，不能忽视基本的物理规律啊！
七纳米和五纳米阶段省钱，性价比高。
等效三纳米，二纳米，一点五纳米，一纳米阶段则是硬需求……没它就造不了。
上述这两点，就是徐申学不管如何都要搞EUV光刻机的缘故！
顺带一提，哪怕是现在智云集团正在秘密研发，即将明年发布商用型号的超导量子计算机，它内部的核心零部件‘超导量子芯片’也是用光刻机生产的，而且对工艺要求很高，这需要高端光刻机。
倒是国内另外一些机构正在研发的光子量子计算机，虽然也需要光刻机来生产芯片，但是对光刻机的性能要求不算高。
而现在，随着这台第三代试验机的诞生，困扰智云集团，乃至困扰华夏电子工业的最后一道枷锁，就被彻底打破了。
所以现在徐申学最关心的问题就是：“这台原型机看起来已经相当成熟了，什么时候可以量产商用？”
海湾科技的CEO王道林道：“我们设计这台原型机的时候，就是奔着量产型号去的，从技术角度来说，我们已经打通了所有的技术环节，随时可以生产更多的HEUV-300A型的光刻机，但是它毕竟只是一台原型机，纵然理论可行，但是实际长时间使用会暴露什么问题，这依旧不明确，我们依旧需要对它进行一定时间的各种测试，找出来潜在的诸多问题。”
”但是下个月开始，我们可以为智云微电子开始提供少量的实验机型，用来进行前期的测试工作！”
“正式量产型号的话，还需要看后续的测试工作是否顺利，需要多长时间，而这方面还需要智云微电子这边进行配合！”
这个时候，徐申学看向了一旁跟着来视察的智云微电子的CEO丁成军：“你们这边还需要多久才能搞定这些测试工作？”
丁成军斟酌着了会后道：“我们订购EUV光刻机的话，必然是用在等效七纳米工艺以及未来的等效五纳米工艺之上的，目前我们的七纳米工艺的技术是建立在DUV浸润式光刻机之上的，而这一套工艺和EUV光刻机的工艺技术差别会很大！”
“之前我们虽然也获得了一些国外EUV光刻机的秘密资料，也尝试进行了理论上的工艺开发准备工作，但是依旧很不完善！”
“当然，单纯光刻机测试工作我们有信心在一年内完成，EUV光刻机的七纳米工艺有望在两年左右搞定！”
徐申学心中盘算了一番，这意味着明年冬天左右EUV光刻机的量产型号，就能批量生产交付给智云微电子，等到后年下半年话应该就能完成EUV光刻机等效七纳米工艺的技术认证，大后年初开始大规模投产。
进而取代现在死贵又不好用的DUV浸润式光刻机的等效七纳米工艺。
这个时间表还可以接受。
至少比竞争对手ASML加台积电要快……
为什么？
因为按照徐申学手底下情报部门的打听，ASML那边的EUV光刻机项目一直都谈不上多顺利……也不是说技术不行，他们的技术来源全球各地，能获得很不错的各种子系统。
主要是今天这里出问题，明天那里出问题，拖时间……搞起来各种破事太多！
嗯，基本都是银河安保的功劳！
ASML今年年初才推出了第四代的实验机型，听情报部门反馈，他们的第四代实验机型的分辨率做到了十六纳米，但是套刻精度依旧只有两点五纳米，属于典型的实验机型，用来进行商业生产就不太划算了。
这种第四代实验机型夏天的时候，刚交付给了台积电进行各种测试……银河安保尝试过进行阻挠，不过水果和高通、AMD等一大票美国芯片厂商，现在都指望着台积电的技术能紧跟智云微电子，甚至超越智云微电子呢。
因为现在美国自己已经没有先进的专业芯片代工厂了……AMD的芯片工厂早就出售，现在也没落了，使用的还是四星的落后十四纳米工艺技术，英特尔现在也困在十四纳米工艺，而且英特尔也不对外代工。
所以现在这些欧美的芯片厂商面对智云集团的来势汹汹的竞争，为了保持技术不落后，只能选择台积电进行代工……他们没得选。
而这些美高科技企业背后的财团自然也不会眼睁睁的看着徐申学那王八蛋，又来搞破坏，所以也派出了大规模的安保部队对这个第四代的试验机进行全程护航，保护零配件供应，核心工程师的人身安全，为此双方的安保人员在这个夏天里又狠狠的干了一架。
第一台第四代试验机从他们的厂房运往机场的时候……不但秘密运输，而且对面的财团派出足足一百多名全副武装的安保人员进行全程保护……就怕不知道哪里飞来的火箭弹把它给炸了！
可别觉得夸张，银河安保那群疯子真能干出这种事。
不过银河安保虽然疯狂，但没能挡住这台光刻机顺利被运输到台积电……毕竟对面的安保人员也不是吃素的。
外界至今都没有人知道，围绕着ASML这台第四代试验机，双方前后死伤了数十人。
主要是这种事不太适合公布出来，双方都很默契的采取了暗中交手的方式，爆发武装冲突的事发地，当地的财团也很自觉的帮忙擦屁股……没人愿意让普通人看见财团之间相互打仗的场面，影响太恶劣了。
对此不少其他地方的财团其实对徐申学以及老美的财团意见都很大！
你们两家打仗归打仗，但是别来我这地盘瞎折腾啊，又是车祸，又是枪击，还搞火箭筒乱炸，给你们擦屁股很麻烦的好吧……
好说好歹，这台第四代的试验机总算是运到了台积电，开始安装并进行测试。
而等台积电那边做完各种测试，怎么也得一年时间，然后反馈数据给ASML，ASML根据实验数据进行改进。
哪怕一切顺利的话，最少也要两年后台积电才能够拿到量产型号的光刻机。
而到那个时候，自家的EUV光刻机都已经开始生产芯片了。
徐申学琢磨了一番后，觉得是时候和对面的财团谈判了……毕竟自己能干的事，对面其实也能干。
最近几年，仙女山控股旗下的一些企业，也没少遭到各种破坏，只是智云集团的安保力量足够强悍，再加上当地安全机构协助，勉强没出什么大事……但是一直这样也不好受，仙女山控股的首席科学家，研发出来EUV光刻机多项核心材料的王斌耀教授，最近两年出个门都得带几十号人。
现在这个HDUV-300A都出来了……对方知道了后大概率是要忍不住大规模动手了。
这就和徐申学夏天的时候，知道了ASML在己方的各种阻挠下，竟然还折腾出来了第四代试验机的时候，亲自下令进行各种破坏阻挠，因此银河安保下属的安保人员如同疯狗一样扑向欧洲一样。
自己都忍不住的要动手，对面大概率也忍不住。
都是世界级的财团，谁也没比谁更善良！
如今双方的原型机都已经搞出来了，量产时间也大差不差……这个时候继续在EUV光刻机领域里相互纠缠已经没有什么实际意义了。
反正徐申学的目标很简单，EUV光刻机我不能用，你们也不能用。
如果是一起用的话，徐申学其实没什么意见……就和现在的DUV浸润式光刻机一样，大家都在用，然后就各自凭借实力玩芯片制造工艺、芯片设计呗。
而芯片制造工艺技术以及芯片设计技术上，智云集团是有优势的。
考虑到了这一点，当天晚上回去后，徐申学给太平洋对岸打了个电话，简单聊了聊。
这种事，徐申学只开了个头，对面就猜到了徐申学的想法。
一开始还挺嘴硬的说什么你徐申学发动战争容易，但是想要结束战争就不是那么容易事了。
你想打就打，想不打就不打，你当地球是你家的啊，脸这么大？
但是徐申学又不是什么善人，说的他烦躁了就直接来了一句：要么双方罢战，要么战争升级……你自己选一个！
然后对面就怂了……升级个屁，现在是手底下的炮灰打仗，死再多我也不在乎，但是你要升级，我可就不奉陪了。
我的命金贵着呢，你以为谁都像你徐申学烂命一条啊！
所以，对面就说什么地球人类是一家，打打杀杀的多不好，友好和平才是人类的未来。
对面一怂，徐申学自然也说了些好话，说什么合作才是未来，地球就屁大点的地方，这低头不见抬头见的，大家一起做生意就挺好的，没必要搞冲突嘛！
反正EUV光刻机这东西，你我双方都搞的差不多了，使绊子除了让双方死多点人，也没啥太大的用处，我拦不住你，你也拦不住我，还不如干脆和解。
然后在商业规则内进行竞争，大家各拼本事掠夺全球市场多好啊，尤其是欧洲那地方，那么肥，不多吃几口都心痛啊。
双方扯了接近半个小时，最后达成了临时口头协议，在光刻机领域里暂时罢战，然后大家一起用EUV光刻机，同时还达成了另外一个协议，对EUV光刻机为核心的先进半导体工艺技术要进行管制，别胡乱出口！
这个世界上，不需要第三个能够拥有先进半导体技术的国家。
对面还特地强调了印度……说那群阿三一直在谋求获得先进半导体技术，我这边已经给拒绝了，你徐申学也别犯糊涂，该封锁就得封锁，不然就是个祸害！
双方在这事上达成了口头协议后，接下来的事情就简单了……对EUV光刻机的各种举动也不用遮遮掩掩，担心被对手给破坏了。
首先，ASML那边提前一步举行了新闻发布会，宣布旗下的EUV光刻机技术的若干重大技术突破，其第四代试验机已经进入测试阶段，量产机型有望在两年内推向市场。
而一周后，仙女山控股旗下的海湾科技也举办了新闻发布会，正式对外公布了HEUV-300A原型机的信息，并宣城两年内有望投入量产，冲向芯片制造领域的新高峰！
两大光刻机巨头，在间隔一周内同时宣布EUV光刻机的重大技术进步的消息，这又引来了科技行业的震动。
EUV光刻机，自从2006年ASML搞出来第一台试验机开始，业界已经期待了十多年了，但是一直都是各种测试，从来都没能投入到量产阶段，更没有投入到芯片批量制造领域。
如今，这两大光刻机巨头却是宣布，两年内就能看见EUV光刻机投入量产，并制造等效七纳米乃至更先进的芯片。
这可是个大消息！
这意味着，芯片的算力依旧可以稳步的继续提升，而不用担心在等效七纳米工艺之后难以为继了。
这对人类整体的技术发展都是有巨大的积极意义的。
尤其是现在移动互联网在全球范围内大规模应用，各种智能终端层出不穷，同时人工智能技术开始逐步应用，人类社会已经朝着智能化的时代进步了。
这也就意味着对芯片的需求更高。
围绕着芯片的一系列技术进步，直接关系到了整个人类社会的技术进步。
如今芯片技术能够持续进步，也让很多业内人士松了口气……未来大有可期！
只不过在EUV光刻机领域里虽然徐申学和对面的财团达成了和解……但是只局限于这个领域。
在其他领域里的竞争依旧剧烈。
同时对面的财团也不是一家，而是很多家，彼此间也有利益冲突，也不是什么人都愿意和徐申学和谈的。
尤其是在汽车领域里，随着徐申学手底下的海蓝汽车发展的越来越好，尤其是向市场推出了三十万左右的海蓝SLMC以及海蓝MEV这两款车型后，在全球都卖的很不错。
哪怕是在北美市场里，也卖得很好，甚至都有压过特斯拉的势头。
如此情况下，对面的其中几家财团也终于是忍不住了……
不过这一次，他们并没有直接针对海蓝汽车这单独一家企业搞什么制裁和封锁，这不适合……毕竟海蓝汽车在海外做生意，还是挺规矩的，借口不太好找。
再加上徐申学这个人脾气也不算好，你单独封禁海蓝汽车，朝着徐申学脸上啪啪打脸，人家就敢让美国品牌的汽车直接滚出华夏市场。
所以，他们走了个折衷方案：对所有来自华夏的汽车，关税直接拉到百分之一百！
意思就是：我不是针对你徐申学啊，也不是针对你手底下的海蓝汽车啊……我这是正常的贸易保护啊，这是规则内的商业竞争啊，你徐申学也气急败坏直接扔火箭筒，那不符合规矩！